为了推动中国光学事业的快速发展，给国内外光学专家学者搭建一个国际同行深入交流的平台，促进中国光学科研院所和光学企业之间的紧密结合，推动中国光学科学发展与生产技术的进步，由中国科技部高新技术发展及产业化司、中国光学学会、德国应用光学学会和中国国际光电博览会（CIOE）联合主办的顶级光学论坛——2009中国国际应用光学专题研讨会将于 2009年9月06－07日在深圳会展中心与第十一届中国国际光电博览会（CIOE2009）同期举办。
 
本次研讨会首次联合德国应用光学学会共同主办，将是一场具有国际水平的高层次专业论坛。德国演讲专家团队将由德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士带队，带领最顶级的德国光学专家和企业研发人员出席，中方将由中国光学学会理事长周炳琨院士带队，带领有关科研院所及光学企业的研发精英出席，这将是中德两国的顶级专家在光学设计、光学加工、光学测量及应用方面首次在光博会同台论剑，同场还将有来自日本及韩国的光学企业专家参与，它将为行业和光博会参展企业展现应用光学世界最高水平。相信会议的举办可以增进国内相关学科、产业与国外高校、研究机构的联系，进一步提升我国光学领域在国际上的影响力。 
 
本次会议关注的议题包括前沿光学设计理论与技术、光学与光电子材料及其应用、现代光学制造技术、现代光学测试技术与仪器等专业话题。已经确定出席的演讲嘉宾包括中国光学学会理事长周炳琨院士、德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士、中国科学院光电研究院院长相里斌、中国工程院院士叶声华、广东省光学学会理事长汪河洲等光学科研机构专家，北京理工大学、广州中山大学、天津大学等国内一流院校的光学专业教授，以及上海光学精密机械研究所、中国科学院成都光电所的专业学者等，更多演讲嘉宾和学者还在邀请中。他们将就光谱成像技术与应用、现代光学制造工程的发展、几何量的光电测量、面向光学产业和高科技发展要求的光学测试技术和装备、自由曲面光学系统的设计、光子晶体光全息制作及多光子吸收的材料与机制和应用研究、先进光学材料及其制备、值得光学制造企业关注的新技术和新产品等热点问题展开深入的交流与讨论。 
 
基础研究的成果不进行转化，不进行推广应用无异于纸上谈兵。学科建设与服务国家需求是密不可分的，只有将实验室的研究成果，转化成国家经济社会发展和国防建设迫切需要的技术和产品，推进相关产业的发展，才能起到示范和带头作用。本次研讨会的最大特点就是侧重理论与实际应用相结合，它将在发展方向和技术进步上给予光学企业重要启迪。 
 
与本次应用光学研讨会同期举办的第11届中国国际光电博览会（CIOE2009）是国内最大的光电专业展会，期间三大专业展览之一的精密光学展每年吸引数百家国内外最著名的光学企业参展，今年已经确定参展的企业包括凤凰光学、利达光电、光明光电、HOYA、OHARA等。同期举办的科技成果展将是近年来国家技术进步奖、技术发明奖、自然科学奖，以及部分注册成果（光电类）获奖产品及项目的首次集中展示。 
 
本次研讨会欢迎国内外从事光学制作与应用及相关配套领域的同仁参加，并欢迎光学企业到会展示技术成果，洽谈合作项目。本届研讨会将为参会者提供交流新思想、切磋新技术、总结中国光学应用领域学术研究新成果、技术开发新进展、探讨本领域发展新动态和新趋势，促进光电行业科技创新和成果转化的舞台。